Patente europea E15794767(2) - BOTTOM-UP ELECTROLYTIC VIA PLATING METHOD
Nº Solicitud:
E15794767
Fecha presentación:
05/11/2015
Nº prioridad:
US 201462075326 P
Fecha prioridad:
05/11/2014
Nº publicación OEP:
EP3216050
Fecha publicación:
13/09/2017
Fecha publicación concesión:
08/09/2021
Nº publicación PCT:
WO2016/073658
Fecha publicación Internacional:
12/05/2016
Título:
BOTTOM-UP ELECTROLYTIC VIA PLATING METHOD
Estado:
Patente no validada
Última actualización de la base de datos:
09/06/2022
Expediente principal:
Número de solicitud:
Fecha de presentación:
05/11/2015
Solicitante / Titular:
Nombre:
Corning Incorporated
(100,00%)
Dirección:
1 RIVERFRONT PLAZA
Localidad:
CORNING
País de residencia:
US ESTADOS UNIDOS DE AMERICA
Inventor/es:
Agente/Representante:
sin representación
Reivindicación de prioridad:
Clasificaciones:
CIP invención concesión:
C25D 1/04, C25D 5/02, C25D 7/12, H01L 21/48, H01L 21/768, H01L 23/15, H01L 23/498
CIP adicional concesión:
H01L 21/288