Patente europea E12761311(5) - METHOD FOR MEASURING DISTORTION OF PROJECTION OBJECTIVE
Nº Solicitud:
E12761311
Fecha presentación:
21/03/2012
Nº prioridad:
CN 201110068060
Fecha prioridad:
21/03/2011
Nº publicación OEP:
EP2690496
Fecha publicación:
29/01/2014
Fecha publicación concesión:
17/08/2016
Nº publicación PCT:
WO2012/126364
Fecha publicación Internacional:
27/09/2012
Título:
METHOD FOR MEASURING DISTORTION OF PROJECTION OBJECTIVE
Estado:
Patente no validada
Última actualización de la base de datos:
18/05/2017
Expediente principal:
Número de solicitud:
Fecha de presentación:
21/03/2012
Solicitante / Titular:
Nombre:
Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.
(100,00%)
Dirección:
1525 Zhangdong Road Pudong New Area
Localidad:
Shanghai 201203
País de residencia:
CN CHINA
Inventor/es:
Agente/Representante:
sin representación
Reivindicación de prioridad:
Clasificaciones:
CIP invención concesión:
G03F 7/20, H01L 21/66, G03F 1/44