Patente europea E02027674(7) - Simultaneous self-calibrated sub-aperture stitching for surface figure measurement ( interferometer )
Nº Solicitud:
E02027674
Fecha presentación:
12/12/2002
Nº prioridad:
US 341549 P
Fecha prioridad:
18/12/2001
Nº publicación OEP:
EP1324006
Fecha publicación:
02/07/2003
Fecha publicación concesión:
29/03/2006
Título:
Simultaneous self-calibrated sub-aperture stitching for surface figure measurement ( interferometer )
Estado:
Patente no validada
Última actualización de la base de datos:
10/07/2006
Solicitante / Titular:
Nombre:
QED TECHNOLOGIES INTERNATIONAL, INC.
(100,00%)
Dirección:
870 N. COMMONS DRIVE
Localidad:
AURORA, IL 60504
País de residencia:
US ESTADOS UNIDOS DE AMERICA
Inventor/es:
Agente/Representante:
sin representación
Reivindicación de prioridad:
Clasificaciones:
Clasificación CIP7 o anteriores:
G 01B 11/255 , G 06T 11/00, G 02B 7/00, G 01M 11/00